K&F Concept KF01.974V1 Nano-X MRC CPL 82 mm
KF Concept Nano-X MCUV filtr je navržen s pokročilou technologií 28 vrstev vícevrstvých nanotechnologických povlaků, které efektivně blokují škodlivé UV záření a snižují riziko nechtěné mlhy na fotografiích. Tento filtr také zlepšuje kontrast a celkovou ostrost snímků, čímž přináší vyšší kvalitu výsledných záběrů. Kromě optického vylepšení nabízí filtr ochranu objektivu před prachem, vodou, otisky prstů a poškrábáním, což z něj dělá ideální volbu pro každodenní fotografování v různých podmínkách.... Celý popis
Popis
KF Concept Nano-X MCUV filtr je navržen s pokročilou technologií 28 vrstev vícevrstvých nanotechnologických povlaků, které efektivně blokují škodlivé UV záření a snižují riziko nechtěné mlhy na fotografiích. Tento filtr také zlepšuje kontrast a celkovou ostrost snímků, čímž přináší vyšší kvalitu výsledných záběrů. Kromě optického vylepšení nabízí filtr ochranu objektivu před prachem, vodou, otisky prstů a poškrábáním, což z něj dělá ideální volbu pro každodenní fotografování v různých podmínkách.
Ø Vyberte průměr filtru49 mm 52 mm 55 mm 58 mm 62 mm 67 mm 72 mm 77 mm 82 mm 86 mm 95 mm 105 mm 112 mm 127 mm
TECHNICKÉ SPECIFIKACE
Typ filtru:
CPL
Průměr filtrů:
Průměr filtru je uveden v názvu produktu
Tloušťka rámečku:
5,3 mm
Materiál rámečku:
Letecká hliníková slitina, Japonské AGC sklo
Odrazivost:
0,2%
OBSAH BALENÍ
1) Filtr
2) Pouzdro
Ø Vyberte průměr filtru49 mm 52 mm 55 mm 58 mm 62 mm 67 mm 72 mm 77 mm 82 mm 86 mm 95 mm 105 mm 112 mm 127 mm
TECHNICKÉ SPECIFIKACE
Typ filtru:
CPL
Průměr filtrů:
Průměr filtru je uveden v názvu produktu
Tloušťka rámečku:
5,3 mm
Materiál rámečku:
Letecká hliníková slitina, Japonské AGC sklo
Odrazivost:
0,2%
OBSAH BALENÍ
1) Filtr
2) Pouzdro
Parametry
| Výrobce | K&F Concept |
